Intel kupił kolejny system do produkcji układów zgodnie z High-NA EUV 0,55. Mowa o TWINSCAN EXE:5200, który zostanie wykorzystany w masowej produkcji dopiero za trzy lata
W 2018 roku Intel kupił od ASML Holding N.V. system TWINSCAN EXE:5000, potwierdzając swoje zainteresowanie technologią High-NA (EUV z wykorzystaniem wysokiej apertury numerycznej), w której chce zresztą być liderem. High-NA, to z kolei nic innego, jak rozwój obecnego wariantu litografii EUV do kolejnego poziomu zaawansowania i tak też zamiast tradycyjnej soczewki, ten system zawiera soczewkę anamorficzną, obsługującą 8-krotne powiększenie w jednym kierunku i 4-krotne w drugim. W skrócie? Umożliwia to jeszcze skuteczniejszą produkcję zaawansowanych układów półprzewodnikowych.
Czytaj też: Odkryto lukę bezpieczeństwa dysków SSD. Złośliwe oprogramowanie może nigdy nie zostać wykryte
Wizja Intela i jego wczesne zaangażowanie w technologię High-NA EUV firmy ASML jest dowodem jego nieustannego dążenia do realizacji Prawa Moore’a. W porównaniu z obecnymi systemami EUV, nasza innowacyjna, rozszerzona mapa drogowa EUV zapewnia ciągłe ulepszenia litograficzne przy jednoczesnym zmniejszeniu złożoności, kosztów, czasu cyklu i energii, których przemysł chipowy potrzebuje, aby zapewnić przystępny cenowo wzrost w następnej dekadzie– powiedział Martin van den Brink, prezes i dyrektor techniczny ASML
Obie firmy od dawna współpracują ze sobą i obie mogą zyskać na długoterminowej współpracy w zakresie wysokiej apertury numerycznej, której rozpoczęcie planowane jest na 2025 roku. Intel dał na to światu kolejny dowód, kupując właśnie system TWINSCAN EXE:5200 firmy ASML, czyli wysokonakładowy system produkcji w ekstremalnym ultrafiolecie z wysoką aperturą numeryczną, która zapewni produkcję na poziomie ponad 200 wafli na godzinę.
Czytaj też: Dlaczego gramy w gry? Badanie odpowiada jacy są Polscy gracze
Potencjał układów wyprodukowanych z wykorzystaniem systemu TWINSCAN EXE:5200 zostanie przedstawiony światu dopiero w 2025 roku. Będzie jednak na co czekać, bo ten system produkcji (podobnie jak TWINSCAN EXE:5000) wykorzystuje aperturę numeryczną 0,55, co stanowi wzrost precyzji w porównaniu z poprzednimi maszynami EUV z soczewkami 0,33.
Czytaj też: Wydajność zużytego SSD. Wykończyliśmy dysk, żebyście Wy nie musieli
Umożliwi to tworzenie wzorów o wyższej rozdzielczości dla coraz krótszych elementów tranzystorowych, czyli innymi słowy, pozwala na produkcje bardziej zaawansowanych układów przez m.in. gęściej upakowane tranzystory. Cała technologia EUV 0,55 została opracowana w celu umożliwienia rozwoju wielu przyszłych węzłów począwszy od 2025 roku.
