Rozpoczęto produkcję 3nm układów. TSMC poczeka z tą masową aż do połowy 2022 roku
O tym, że Taiwan Semiconductor Manufacturing Company ruszyło z produkcją 3nm układów (N3), dowiedzieliśmy się z raportów opublikowanych przez serwis DigiTimes oraz TechTaiwan. Ta trwa już w formie pilotażowej produkcji w Fab 18 w Southern Taiwan Science Park w pobliżu Tainan, zapewne zapewniając każdego dnia wielu zmartwień i wyzwań.
Czytaj też: Szybko poszło. Snapdragon 8 Gen 1 ledwo zadebiutował, a już wiemy, do których smartfonów trafi
Dopiero kiedy te znikną, TSMC zacznie realizować zamówienia dla dwóch swoich głównych partnerów, a inne firmy zaczną ostrzyć sobie ząbki na ulepszony proces N3E (plan wprowadzenia 2023/2024 rok), który ma charakteryzować się szerszym wyborem parametrów produkcyjnych wraz z poprawą wydajności i niższym poborem mocy.
Obecną produkcję 3nm układów na małą skalę określa się mianem “ryzykownej” nie bez powodu, bo zanim ta produkcja doczeka się dużej skali, TSMC i jego partnerzy będą musieli współpracować kilka kwartałów, aby dopracować technologię i projekty. To z kolei sugeruje, że masowa produkcja rozpocznie się w około drugiej połowie 2022 roku (może ulec opóźnieniu/przyspieszeniu) i dopiero wtedy rozpocznie się ich droga na rynek, która potrwa ponad 100 dni.
Czytaj też: NVIDIA dała plamę z GeForce RTX 2060 12GB. Znamy specyfikację i szacowaną cenę
Tak też pierwsze 3nm układy wyprodukowane przez TSMC trafią na rynek na początku 2023 roku. Mowa zarówno o smartfonach, jak i sprzętach HPC (High-Performance Computing), co stanowi odejście od zwyczajowej taktyki TSMC, polegającej na zajmowaniu się w pierwszej kolejności wyłącznie projektami mobilnymi, jak wskazuje Tom’s Hardware. Podobno pierwszymi klientami na N3 TSMC będą Apple i Intel, ale nie wiemy, jakie układy będą produkowane przy użyciu tej nowej technologii.
Czytaj też: PEM to trudny temat. Jak dbać o odpowiednią edukację?
Wiemy za to, że 3-nm proces technologiczny TSMC będzie wykorzystywał ekstremalną litografię ultrafioletową (EUVL) dla “ponad 20 warstw” i jak wyjaśniliśmy na początku, zapewni znaczące ulepszenia w stosunku do istniejących węzłów bazujących na N5.
