Micron pokazał swoje 176-wartwowe NAND, DRAM na procesie 1α, Micron 1 alfa

Nadchodzą jeszcze lepsze pamięci DRAM na bazie EUV. Micron wyjawił plan

W czerwcu 2021 roku informowaliśmy, że firma Micron pokazała swoje 176-wartwowe NAND i pochwaliła się dostawą pierwszych DRAM wykonanych z wykorzystaniem procesu 1α. Dziś mamy dla Was kontynuację tych informacji, bo szczegóły na temat tego, jak wypadnie w praktyce proces 1-gamma Microna, który ma zapewnić światu jeszcze lepsze pamięci operacyjne. Dlaczego? Bo będą to pierwsze DRAM na bazie EUV.

Proces 1-gamma Microna wprowadzi do produkcji DRAM litografię EUV

Przed rokiem, pierwsze dostarczone pamięci LPDDR4x i DDR4 oparte na 1α (1-alfa) były uznawane za najbardziej zaawansowane. Nie bez powodu, bo ten proces produkcji Micron określał mianem najlepszego, który dodatkowo zapewniał układom DRAM znaczące ulepszenia pod kątem gęstości (o 40%), ogólnej stabilności, wydajności i zużycia energii (o 20%). Firma ciągle go wykorzystuje, co oznacza, że nadal korzysta z technologii DUV.

Czytaj też: Venus Optics Laowa 24mm T14 2X Periprobe – najdziwniejszy obiektyw w nowej odsłonie

Obecny węzeł 1-alfa Microna jest oparty na technologii DUV, która zapewne pozostanie jeszcze z fabrykami firmy na długo. Wiemy, że w planach producenta jest przejście z 1-alfa na 1-beta, 1-delta i wreszcie 1-gamma. Za tymi określeniami na podstawie greckiego alfabetu kryje się zarówno zaawansowanie technologiczne, jak i (co najważniejsze) nanometrowa skala dla poszczególnych tranzystorów. Micron odszedł dawniej od tej tradycyjnej, przez co nie wiemy, czy już teraz DRAM na bazie 1-alfa przekroczyły poziom 10-nm, czy może dokonają tego dopiero 1-beta.

Czytaj też: Obniżki cen kart graficznych trwają. Tak prezentuje się obecna sytuacja

Pewne jest jednak to, że na wykorzystanie technologii EUV (w miejscu DUV) poczekamy sobie jeszcze długo, bo jeśli nie do węzła 1-delta, to do 1-gamma. Wprawdzie oficjalne ogłoszenia w formie roadmapy wskazują na wprowadzenie naświetlania krzemu zgodnie z zasadami EUV (Extreme Ultraviolet) już w 1-delta, ale od dawna krążą pogłoski, że najpewniej dojdzie do opóźnienia wprowadzenia tej litografii właśnie do procesu 1-gamma. Będzie to innowacyjne, bo litografia EUV jest już od lat stosowana przy produkcji zaawansowanych układów logicznych, ale nie doczekała się jeszcze zastosowania na poletku DRAM.

Czytaj też: Tajemnicza chińska karta graficzna Glenfly Arise 1020 przetestowana

Z najnowszego ogłoszenia wynika, że Micron rozpocznie podbój świata swoimi DRAM zupełnie nowej generacji (wykonywanych z wykorzystaniem EUV) w Tajwanie. Obecnie to tam firma planuje przeprowadzić proces modernizacyjny zakładów produkcyjnych, a następnie (najpewniej) unowocześniać placówki w Singapurze, Japonii, Chinach czy rodzimych Stanach Zjednoczonych.