Opracowano sprzęt do litografii EUV nowej generacji, EUV nowej generacji

Elementy procesorów będą jeszcze mniejsze. Litografia EUV będzie dalej przesuwać granice miniaturyzacji

Skala układów półprzewodnikowych zmniejsza się z roku na rok. Mamy już pewne informacje co do nie tylko 5nm, ale też 3nm procesu technologicznego. Choć mogłoby się wydawać, że ledwie co zeszliśmy z dwucyfrowych poziomów. Wiele zawdzięczamy w tej kwestii opracowanej w 2017 roku technologii EUV (Extreme Ultraviolet Lithography), którą wykorzystuje się od trzech lat do produkcji najbardziej zaawansowanych układów. Opracowany właśnie sprzęt do litografii EUV nowej generacji będzie kultywował tę elitarność w przyszłości i naszym dążeniu do nanotechnologii.

Ogromny potencjał EUV nowej generacji na horyzoncie. O postęp technologiczny możemy się już nie martwić

Holenderska firma ASML ogłosiła właśnie, że opracowała nową generację sprzętu do litografii EUV, która może wytwarzać układy z niespotykanym wcześniej poziomem precyzji. To otwiera drogę do ciągłej miniaturyzacji i ulepszania układów krzemowych, czyli w skrócie jeszcze „gęstszego” wpakowywania w nie tranzystorów. Potencjał tej technologii jest tak duży, że może ponownie wskrzesić słynne Prawo Moore’a, które wielu uznało za martwe. Wedle niego moc obliczeniowa komputerów podwaja się co 24 miesiące.

Czytaj też: Niedługo zadebiutuje Snapdragon Wear 5100. Zabierajcie go sobie, a dajcie nam lepsze baterie w zegarkach

Jedna z maszyn do EUV

To naprawdę niesamowita maszyna. To absolutnie rewolucyjny produkt, przełom, który na lata tchnie nowe życie w branżę.

– powiedział Jesús del Alamo, profesor na MIT, który pracuje nad nowatorskimi architekturami tranzystorów (via Wired).

Sprzęt do litografii EUV nowej generacji ulepsza ten stosowany obecnie poprzez minimalizację długość fali światła UV wykorzystywanego w działaniu urządzeń. To z kolei zmniejszy wewnętrzną strukturę układów, umożliwiając produkcję wydajniejszych, mniejszych i bardziej energooszczędnych wersji.

Czytaj też: Najszybszy jednoukładowy kontroler dla zewnętrznych SSD. Oto SM2320 od Silicon Motion

Nie będzie to jednak chlebem powszednim dla wszystkich fabryk półprzewodnikowych układów, bo nawet teraz funkcjonuje jedynie 53 maszyn do litografii EUV. To ogromne sprzęty wielkości autobusów miejskich, które kosztują ponad pół miliarda złotych i składają się z około 100000 elementów i okablowania długiego na wiele kilometrów. Nic dziwnego, że korzystają z nich najwięksi giganci (Samsung, TSMC, Intel).

Czytaj też: Cały pokój jako ładowarka, czyli przełom w technologii ładowania bezprzewodowego

Jeden z najważniejszych komponentów do sprzętu EUV nowej generacji, stworzony głównie z aluminium, jest obecnie produkowany w Connecticut. Ten będzie się poruszał z dokładnością do nanometrów, umożliwiając ultraprecyzyjne sterowanie niezwykle wąskim strumieniem światła ultrafioletowego. To będzie naświetlać krzem, aby w następnych procesach można było wyżreć w nim „luki” o wielkości kilku atomów na m.in. tranzystory. Po ukończeniu ten element zostanie wysłany do Veldhoven w Holandii do końca 2021 roku, gdzie zostanie zamontowany w prototypie na początku 2022 roku.